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情報  

スタッフ

  • Professor
    Takashi Nishikata (Ph.D., 2005, Hokkaido University) CV
    教授:西形 孝司 (博士(工学)、2005年、北海道大学)
  • Up coming invited lectures
24/11 日中韓シンポジウム

情報  
2024 Students

<企業の方へ>
有機化学研究室には、非常に優秀な学生が揃っています。こちらにお示ししました通り、論文、受賞、そして、普段の研究活動や勉学も目を見張るものがあります。優秀な人材をお探しの企業様、学生に関してさらに詳しい情報をお求めの場合には、西形までお問い合わせください

  Advanced Dc  
(先進コース:
博士前後期一貫)
 業     績
ADc.5
井西 司
Tsukasa Inishi

As of 2024.08.10.

Total Exp. 2234
G.P. 6
Labo. Lv. Dr
発表論文
1) Michael addition of indoles to enones catalyzed by a cationic iron salt,
  T. Inishi, G. Hirata,
T. Nishikata*
  Synthesis, 2021, accepted. DOI: 10.1055/s-0040-1705997

学会発表
1) Iron-catalyzed Michael additions of indoles, Inishi Tsukasa, Goki Hirata, and Takashi
  Nishikata, 第4回精密制御反応場国際シンポジウム、2019, Dec, 3-5, Nara, ポスター発表
2) カチオン性鉄触媒を用いるインドールのかさ高いエノンへの共役付加反応開発
 Tsukasa Inishi, Goki Hirata, Takashi Nishikata
 日本化学会第100回春季年会, 2020, March, 茨城、口頭発表
3) Tsukasa Inishi, Goki Hirata, Takashi Nishikata
 カチオン性鉄触媒によるエノンへの1-アルケニルボロン酸の共役付加反応
 日本化学会第102春季年会,2021,March(24th),オンライン、ポスター
4)井西 司、西形 孝司
 スチレンの光触媒による二量化およびトリフルオロメチル化反応
 日本化学会第104春季年会,2024,Mar(18th),千葉(日大)、口頭

受賞など
1) JST 次世代研究者
ADc.2
新田 恭之
Yasuyuki Nitta
As of 2023.08.10

Total Exp. 1768
G.P. 10
Labo. Lv. Dr
発表論文
1) Directed nucleophilic aromatic substitution reaction
 Yasuyuki Nitta, Yusei Nakashima, Michinori Sumimoto, Takashi Nishikata, Chem.Commu., 2024,


学会発表
1)Ortho-specific Amination of Aryl halides by Photocatalyst
 Yasuyuki Nitta, Yusei Nakashima, and Takashi Nishikata
 Innovative Reactions through Controlling Electrons (ISIRCE), 2022, Nov(23rd) , Nara, ポスター
2)有機触媒によるオルト位特異的SNArによるハロゲン化アリールのアミノ化反応
 新田 恭之、中島 悠成、西形 孝司、 日本化学会第103春季年会,2023,3/24、口頭
3)ピリジン触媒によるヨウ化アリールのオルト位特異的アミノ化反応
 新田 恭之、中島悠成、西形 孝司 第52回複素環化学討論会,2023, Oct(13th),ポスター
4)アミン触媒を用いたアリールハライドのSNAr型オルト位特異的アミノ化反応
 新田 恭之、中島悠成、西形孝司 第33回福岡万有シンポジウム,2023,Jun(3rd),ポスター
5)新田 恭之、中島悠成、西形 孝司
 光触媒存在下C-O結合開裂で実現する分解性高分子の設計
 日本化学会第104春季年会,2024,Mar(19th),千葉(日大)、口頭
6)新田 恭之、西形 孝司
 有機光触媒によるC-O結合開裂を経由するオキシインドール合成
 第34回基礎有機化学討論会、2024、Sep()、口頭
7)新田 恭之、小池 隆司、谷口 剛史、西形 孝司
 光触媒C-O結合開裂を利用する新規分解性高分子の開発
 第37回高分子討論会、2024、Sep()、口頭

受賞など
1) 応用化学科奨励賞(R2年度)
2) 日本化学会中国四国支部長賞(R4年度)
3) 有機化学研究室中間発表会 最優秀賞(R6年度)

ADc.2
野尻 貴樹
Takaki Nojiri

As of 202308.10

Total Exp. 1719
G.P. 15
Labo. Lv. Dr
発表論文
1) Oxazaborolidinones: Steric Coverage Effect of Lewis Acidic Boron Center in Suzuki–Miyaura Couplings, Naoki Tsuchiya, Takaki Nojiri, Takashi Nishikata, Chem. Eur. J., 2023,
2)Sterically Congested Protecting Group for a Boronyl Group in Iterative Amination
Takaki Nojiri, Naoki Tsuchiya, Takashi Nishikata, Chem. Eur. J., 2024,

学会発表
1)ホウ素ルイス酸性を制御した有機ホウ素試薬の反復型アミノ化反応への応用
 野尻 貴樹、土屋 直輝、西形 孝司、 日本化学会第103春季年会,2023,3/23、口頭
2) 新規環状ホウ素化合物を用いるアミノ化反応の開発
 野尻 貴樹、土屋 直輝、西形 孝司 第69回有機金属化学討論会、2023,Sep(13th),ポスター
3)ホウ素ルイス酸性を制御したオキサザボロリジンを用いる反復型アミノ化反応の開発
 野尻 貴樹、土屋 直輝、西形 孝司, 第52回複素環化学討論会,2023, Oct(13th),口頭
4) 野尻 貴樹、土屋 直輝、西形 孝司
 ホウ素ルイス酸性を制御したオキサザボロリジン誘導体の反復型アミノ化反応への応用
  日本化学会中国四国支部大会,2023,Nov(12th)、口頭
5)野尻 貴樹、西形 孝司
 ホウ素ルイス酸性を制御した有機ホウ素試薬のHeck反応への応用
 日本化学会第104春季年会,2024,Mar(20th),千葉(日大)、口頭
6)立体的に嵩高い保護基を使用した反復型アミノ化反応
 野尻貴樹、土屋直輝、西形孝司
 第34回福岡万有シンポジウム,2024,May(25th),福岡
7)立体的にかさ高い環状ホウ素化合物を用いる反復型酸化的Heck反応の開発
 野尻貴樹、西形孝司  
 第70回有機金属化学討論会、2024,Sep(11th),大阪(大阪公立大学)、口頭
8)ホウ素環状化合物による反復型酸化的ヘック反応
 野尻貴樹、西形孝司  
 第53回複素環化学討論会、2024、Oct()、口頭

受賞など
1) 有機化学研究室中間発表会 優秀賞(R5年度)
2) 第69回有機金属化学討論会ポスター賞(R5年度)
3) 日本化学会中国四国支部長賞(R5年度)
4) 創成科学研究科(工学系)研究奨励賞(R5年度)
5) 新光産業奨学金(R6年度)
  D (一般コース)   業     績
  M2 (一般コース)   業     績

岩下 一風
Ichikaze Iwashita
As of 2023.08.10

Total Exp. 656
G.P. 6
Labo. Lv. 56
発表論文
1) Lewis acid catalyzed stereospecific hydroxylation of chiral tertiary alkyl halides
Tsuchiya, Naoki; Iwashita, Ichikaze; Yamamoto, Tetsuhiro; Akagawa, Hiroki ; Nishikata, Takashi
Chem. Lett. 2024
学会発表
1) Copper-catalyzed stereospecific hydroxylation of chiral tertiary alkyl halides
 Ichikaze Iwashita, Naoki Tuchiya, Hiroki Akagawa and Takashi Nishikata
 Innovative Reactions through Controlling Electrons (ISIRCE), 2022, Nov(23rd) , Nara, ポスター
2)水を用いたキラル第三級アルキルハロゲン化物の立体特異的ヒドロキシル化反応
土屋 直輝、岩下 一風、赤川 裕樹、西形 孝司、日本化学会第103春季年会,2023,3/25、口頭

受賞など
1) 応用化学科奨励賞(R2年度)
2) 応用化学科奨励賞(R3年度)
3) 山口大学学長賞(R4年度)
幸田 創也
Souya Kouda 
As of 2023.08.10

Total Exp. 687
G.P. 1
Labo. Lv. 43
 発表論文

学会発表

受賞など
1) 有機化学研究室中間発表会 がんばったで賞(R4年度)
西隈 凌亮
As of 2023.08.10

Total Exp.364
G.P. 1
Labo. Lv. 24
発表論文

学会発表

受賞など
1) 有機化学研究室中間発表会 優良賞(R6年度)
  M1(一般コース)   業     績

中村 勇太
Yuta Nakamura

Total Exp. 84
G.P.
Labo. Lv. 8
発表論文

学会発表

受賞など
 B4                      業     績
浦 恭瑛
Yasuaki Ura
Total Exp.100
G.P.
Labo. Lv. 10
発表論文

学会発表

受賞など
 林 充樹
Mizuki Hayashi
Total Exp. 110
G.P.
Labo. Lv. 11
 発表論文

学会発表

受賞など
 松井 潤太
Jyunta Matsui
Total Exp.104
G.P.
Labo. Lv. 10
 発表論文

学会発表

受賞など
安田 圭佑
Keisuke Yasuda
Total Exp.139
G.P. 4
Labo. Lv. 33
 発表論文

学会発表

受賞など
1) 応用化学科奨励賞(R3年度)
2) 応用化学科奨励賞(R4年度)
3) 応用化学科奨励賞(R5年度)
4) 有機化学研究室中間発表会 優秀賞(R6年度)
渡邉 秀士
Syuji Watanabe
Total Exp.68
G.P.
Labo. Lv. 7
 発表論文

学会発表

受賞など
学生の努力を多面的に可視化しています。
*Total Exp.とは実験数を表しています。
*Gyoseki point (G.P)とは業績数です。
*Labo. Lv. とは, (Total Exp. + 50 xG.P.Lv.)/(在籍年係数X10)です。係数:B4(1.0),M1(1.3), M2(1.7)


歴代最高値(学位及び在籍年数別)
在籍数6年:中島悠成(R5年度博士):Exp. 3700 論文数: 8報,
在籍数6年:土屋直輝(R5年度博士):Exp. 2700 論文数: 8報
在籍数5年:中村公昭(H29年度博士):Exp. 2700 論文数: 5報,
在籍数3年:山根 侑(H29年度博士):Exp. 1500 論文数: 5報